淺析半導(dǎo)體廢水處理的特點(diǎn)
伴隨著半導(dǎo)體廢水處理技術(shù)的快速發(fā)展和消費(fèi)需求的增加,半導(dǎo)體廠排出的含氟廢水急劇增加,產(chǎn)生的絡(luò)合離子種類增多。各工序所處理的廢水各不相同,其中腐蝕基材廢水以氫氟酸為主,排放量最大。為防止此類廢水對(duì)環(huán)境和生態(tài)造成污染和破壞,必須努力降低廢水氟含量。
半導(dǎo)體廠的廢水,種類很多,特別是含有機(jī)溶劑(用于脫脂和清洗襯底)或含氫氟酸(用于襯底腐蝕) 的氫氟酸廢水,還含有各種化合物。盡管大多數(shù)的有機(jī)溶劑得到了回收,但有些仍然混入廢水中。含氟廢水中氟化物含量較高,而含氟廢水中氟含量較低。所以,高、低氟濃度的廢水可以分別處理,也可以混雜在一起處理。
CPS半導(dǎo)體廢水處理 特點(diǎn)包括承受沖擊負(fù)荷能力強(qiáng),采用接觸氧化工藝平均停留時(shí)間超過(guò)6小時(shí)。半導(dǎo)體廢水處理具有除氮除磷的功能,可調(diào)整設(shè)備結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)對(duì)工業(yè)、生活和市政污水的處理。接觸氧化池內(nèi)的填料多為軟填料,具有重量輕、強(qiáng)度高、物理化學(xué)性能穩(wěn)定、比表面積大、生物膜附著力強(qiáng)、污水接觸效率高、生物膜多等特點(diǎn)。