集成電路電子廢水處理特點(diǎn)有哪些?
隨著電子等智能產(chǎn)品在我們生活中的逐漸普及,電子工業(yè),尤其是集成電路芯片加工技術(shù),已成為炙手可熱的技術(shù)領(lǐng)域,作為電子產(chǎn)品的核心部件,集成電路的質(zhì)量直接決定著電子整機(jī)產(chǎn)品的性能和可靠性。
在集成電路生產(chǎn)過程中,在硅氧化、光刻、外延、擴(kuò)散、引線蒸發(fā)等許多工序之前,都要用物理或化學(xué)的方法除去硅片表面的污染物和自身的氧化物,使其達(dá)到凈化要求,但也會(huì)產(chǎn)生大量的廢水。伴隨著我國“節(jié)能減排”的方針政策的實(shí)施,在電子工業(yè)用水大戶的環(huán)評(píng)報(bào)告中明確提出,除廢水排放標(biāo)準(zhǔn)外,還要求廢水必須達(dá)到一定的再生利用率,實(shí)現(xiàn)循環(huán)經(jīng)濟(jì)。
目前,電子廢水中,尤其是電子工業(yè)含氟含氨氮廢水的處理,已成為水處理行業(yè)的突出難題之一。電子業(yè)含氟氨氮廢水具有水量大,污染物組成復(fù)雜,污染程度高,易生化性差,總?cè)芙夤腆w鹽(TDS),氨氮和氟化物含量高等特點(diǎn)。因?yàn)檫@類廢水的可生化性較差(BOD/COD<0.1),而且由于城市污水處理廠的工藝技術(shù)限制,出水中的總氮往往不達(dá)標(biāo),容易導(dǎo)致排放水體富營養(yǎng)化,尤其是對(duì)某些特殊污染物(如氟)無法有效去除,只能通過稀釋來降低濃度,在提高能耗的同時(shí)增加企業(yè)成本。根據(jù)IC清洗廢水的特點(diǎn),在處理時(shí)應(yīng)考慮采用回用方式處理廢水,設(shè)計(jì)了IC清洗廢水回用系統(tǒng)用于處理該廢水。